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PVD镀膜机分层技术

发布时间:2024-09-23 21:20:09 来源:互联网 分类:工业机械知识

文章摘要: 1.PVD镀膜机阴极电弧过滤:电磁过滤系统配备离子源,可过滤掉等离子体中产生的宏观颗粒和离子。磁过滤后沉积颗粒的电离率为100%,颗粒可以被过滤掉。因此,所制备的薄膜非常致密光滑,具有良好的耐腐蚀性,并且具有非常强的车身附着力。2.PVD镀膜机增强型磁控

  1.PVD镀膜机阴极电弧过滤:电磁过滤系统配备离子源,可过滤掉等离子体中产生的宏观颗粒和离子。磁过滤后沉积颗粒的电离率为100%,颗粒可以被过滤掉。因此,所制备的薄膜非常致密光滑,具有良好的耐腐蚀性,并且具有非常强的车身附着力。


  2.PVD镀膜机增强型磁控管阴极电弧:阴极电弧技术在真空条件下通过低电压、大电流将靶材去离子成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控管阴极电弧可以通过电磁场的相互作用,有效控制靶材表层的电弧,使材料具有更高的电离速率和更好的薄膜性能。

       

  3.PVD镀膜机离子束:碳氢气体在离子源中电离成等离子体,在电磁场的共同作用下,碳离子从离子源中释放出来。离子束的能量通过调节施加到等离子体的电压来控制。当将碳氢离子束引入衬底时,沉积速率与离子电流密度成比例。PVD镀膜机的离子束源采用高电压、大离子能量,使薄膜与基体结合良好。离子电流越大,类金刚石薄膜的沉积速度越快。离子束技术的主要优势在于沉积超薄多层结构,工艺控制精度可达数埃,工艺中颗粒污染造成的缺点可降至低。


  4.PVD镀膜机磁控溅射:在真空环境下,在电压和磁场的共同作用下,离子化的惰性气体离子轰击靶材,使靶材以离子、原子或分子的形式喷射沉积在衬底上,形成薄膜。导电和不导电材料都可以溅射成靶,这取决于所用的电离电源。


PVD镀膜机分层技术

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