电镀氧化铜的方法

氧化铜适用于垂直连续电镀和不溶性阳极下电镀，具有纯度高、氯离子低、沉积涂层优良等优点。广泛应用于高中方面电镀、填孔电镀、深盲孔电镀等PCB产品领域，符合RoHS标准。

电镀氧化铜作为连续的铜源；半导体材料；作为催化、超导、陶瓷等领域的重要无机材料，应用范围广泛；用作催化剂和催化剂载体和电极活性材料；用作玻璃和瓷器着色剂、光学玻璃抛光剂、有机合成催化剂、石油脱硫剂、加氢剂；制造人造宝石和其他氧化铜；用于制造人造丝，以及气体分析和有机化合物的测定；也可用作火箭推进剂的燃烧速率催化剂。

一种高纯低氯电镀氧化铜的制备方法，该方法以铜、液氨、高纯二氧化碳为原料，先制备浓氨水，再将高纯二氧化碳通入浓氨水中，通过控制碳化程度制备碳化氨水，这种碳化氨水在一定气压下与铜反应，得到铜氨络合物溶液，再经加热、蒸氨、分离、洗涤、干燥、筛分，制得重质高纯碱式碳酸铜、重碱式碳酸。

然后将铜加热煅烧分解，得到高纯度、低氯的电镀级氧化铜。这个以二氧化碳为原料，避免了传统碱式碳酸铜生产方法所用原料中带入重金属离子、氯离子等杂质的问题。提高了反应速度，缩短了生产周期，大大提高了生产效率，产品杂质含量低，纯度高，活性高，产品应用更广泛。同时，该方法收率高、低能耗、低污染、低成本。