pvd镀膜机的几种镀膜方法

　　真空镀膜技术，简单来说就是利用蒸发、溅射等手段发射出涂层颗粒，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体、塑料零件等物体上，形成涂层。pvd镀膜机主要方法包括以下几种:

　　pvd镀膜机真空蒸发

　　原理是在真空条件下，薄膜材料被蒸发器加热使其气化或升华，蒸发的粒子流直接向基底，固体薄膜沉积在基底上。

　　pvd镀膜机溅射涂膜

　　溅射镀膜是在真空条件下，向阴极施加高电压激发辉光放电，带正电荷的氩离子撞击阴极靶，使其喷射出薄膜颗粒，沉积在基底上形成膜层。

　　pvd镀膜机离子电镀法

　　离子镀通常是指在镀覆过程当中产生大量离子的镀覆方法。在pvd镀膜机成膜的过程当中，衬底一直受到高能粒子的轰击，膜的强度和结合力都很强。

　　真空卷绕涂层

　　真空镀膜是通过各种镀膜方法在成卷的柔性薄膜表层进行连续镀膜的技术，以实现柔性基材的某些特殊功能和装饰性能。

　　为了使光学零件满足光电仪器和元件中所要求的光学、电学和物理性能，可以在其表层镀一层、多层甚至上百层薄膜。如减反射膜、反射膜、分光膜、滤光膜、电热膜、保护膜、偏光膜等。光学零件的涂层主要分为物理涂层和化学涂层。随着真空技术和薄膜监控技术的发展，很容易获得性能稳定、结构复杂的薄膜。因此，真空镀膜是生产中的主要方法。

　　按薄膜性能分类，普遍的膜层有:增透膜、反射膜、分光膜、滤光膜、电热膜、导电膜、保护膜等。

　　根据膜的结构，可分为单层膜、双层膜和多层膜。

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