文章摘要: 鑫立射频离子源厂家推荐离子源的应用: ①离子掺杂和离子束改性 自1960年代以来,人们将一定数量的硼,磷或其他元素离子注入半导体材料中以形成掺杂。 掺杂深度可以通过改变离子的能量来控制。 可以通过积分离子电流的强度来控制掺杂浓度。 离子注入方法比扩
①离子掺杂和离子束改性
自1960年代以来,人们将一定数量的硼,磷或其他元素离子注入半导体材料中以形成掺杂。 掺杂深度可以通过改变离子的能量来控制。 可以通过积分离子电流的强度来控制掺杂浓度。 离子注入方法比扩散方法具有更好的可重复性和可靠性。 离子注入和掺杂已经成为半导体大规模集成电路生产中的重要环节,并且在某些器件中用离子注入代替旧的扩散工艺已成为必然趋势。
通过离子注入对金属材料进行改性获得的结果非常惊人。 在普通金属的离子注入改性中,可以提高金属的硬度,耐腐蚀性和疲劳强度,并且可以下降金属的磨损率。 某些绝缘材料,如陶器,玻璃和有机材料,在受到离子束照射后其性能发生了重要变化,并获得了新的用途。
离子束辐照和掺杂的过程是非热平衡过程,因此该方法可用于获得常规冶金和化学方法无法获得的新材料。 专门用于离子注入的低能量(50〜400keV)小型加速器“离子注入机”已成为一种专用设备,其体积相当于电子显微镜或高压示波器,并且易于使用和维护。 在类金刚石材料,高温超导材料,磁性材料,光敏材料等的研究中,离子束已被广泛使用,新兴的冶金学—“离子注入冶金学”正在形成。
②离子束分析
离子与某些能量和物质的相互作用将造成它们发射电子,光子,X射线等,并且可能发生弹性散射,非弹性散射和核反应,从而造成回弹离子,反冲核,伽马射线,氢核 ,tri核,核反应产物(例如颗粒)可以提供有关物质的组成,结构和状态的信息。 使用此信息来分析样品的过程统称为离子束分析。 在离子束分析方法中,与其他分析方法相结合,有更成熟的反向散射分析X射线荧光分析,核反应分析和通道效应(请参阅通道效应和阻断效应)。 此外,使用低能离子束还可用于表层成分分析,例如离子散射光谱(ZSS),二次离子质谱(SZMS)等。 超灵敏质谱(加速器质谱),带电粒子活化分析,离子激发光谱,离子激发俄歇电子能谱等正在开发中。 用于离子束分析的MV级加速器具有专用的商业设备。
③离子束处理
低能离子束广泛用于工业加工中,例如离子稀化,离子抛光,离子束钻孔,离子束蚀刻,离子束溅射金属膜等。
射频离子源:离子源的应用
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