抛光机在使用过程当中要注意哪些问题？

在抛光机的工作过程当中，更重要的是它的抛光速率可以以更快的速度去除抛光过程当中产生的损伤层，并且损伤层不会对观察到的组织产生影响，即不会造成假组。前者要求其使用粗磨料以保证其较高的抛光率，可以充分去除受损层，但由于受损层也较深，而后者要求其使用更细致的材料，使得受损层较浅，但抛光率相对较低。接下来我就来说说抛光机的工作原理，帮助大家解决这个矛盾。

其实要想解决上述矛盾，即为了去除抛光损伤，将抛光机分为两个阶段进行粗抛，就要让设备有更高的抛光率，这其实是次要考虑的。当然要尽可能减少到相对较小的程度，然后进行精细抛光，目的是去除前一阶段产生的表层损伤现象。一定程度上减少了抛光损伤。在抛光机的操作过程当中，样品的碾磨表层通常平行于抛光盘，并均匀地倾斜在抛光盘上。要注意避免样品飞出，压力过大会出现新的划痕。同时样品要旋转并沿转盘来回移动，避免抛光组织局部损伤过快。

在抛光过程当中，工作人员应不断添加悬浮液，使抛光后的物品保持一定的湿度。如果湿度过高，不仅会下降抛光的磨损效果，还会使样品尾部有夹杂非金属夹杂物和铸铁中石墨的风险。湿度过低时，由于摩擦生热，样品的加热和润滑效果会下降，摩擦液表层会失去光泽，甚至出现黑点。

为了达到粗抛的目的，要求转盘转速低，尽量不高于600 r/min；抛光时间应该比去除划痕所需的时间长，因为变形层应该被去除。粗抛后，碾磨表层光滑，但无光泽，显微镜下有均匀细致的碾磨痕迹，需通过精抛消除。

精细抛光时，可适当提高转盘速度，抛光时间以抛去粗糙抛光后的损伤层为佳。精细抛光后，碾磨面光亮如镜，显微镜明视场下看不到划痕，但在相衬光照条件下仍能看到碾磨痕迹。抛光机的质量严重影响样品的微观结构，逐渐引起相关专家的关注。