文章摘要: NMOS3400管具有以下特性:(1)场效应晶体管是一种电压控制器件,通过栅源电压(VGS)控制漏电流。(FET的输入电流很小,所以输入电阻很大。(3)它用大部分载流子导电,所以温度稳定性好。(4)配置放大器电路的电压放大系数小于晶体管配置放大器电路的电压放大系数。(
NMOS3400管具有以下特性:
(1)场效应晶体管是一种电压控制器件,通过栅源电压(VGS)控制漏电流。
(FET的输入电流很小,所以输入电阻很大。
(3)它用大部分载流子导电,所以温度稳定性好。
(4)配置放大器电路的电压放大系数小于晶体管配置放大器电路的电压放大系数。
(5)场效应管具有很强的辐射防护能力。
(6)无随机运动的退磁扩散引起的散射噪音低。
NMOS3400管道的主要参数是什么?
直流参数
饱和漏电流IDSS可以定义为栅极和源极之间的电压为零。漏极和源极之间的电压大于箝位电压时对应的漏电流。
箝位电压UP可以定义为UDS在一段时间内将ID下降到小电流所需的UGS。
UT的电压开通UDS可以定义为使ID在一定时间内达到值所需的UGS。
交流参数
低频交越GM可以控制栅源电压漏电流。
电容间场效应晶体管中三个电极之间的电容(电容)越小。管道的性能越好。
极限参数
漏电流和源击穿电压当漏电流急剧上升时。雪崩被破坏时会发生UDS。
当栅极击穿电压结型FET正常运转时。栅极和源极之间的PN结处于反向偏置状态。电流过高会出现击穿现象。
产品特性
(1)传输特性:栅极电压对漏电流的控制作用称为传输特性。
(2)输出特性:UDS和ID的关系称为输出特性。
(3)结型场效应管的放大:结型场效应管的放大一般指电压放大。
NMOS3400管道的电气特性是什么?
场效应晶体管和晶体管电气特性的主要区别如下:
贴片场效应晶体管
1.场效应晶体管是一种电压控制器件,其导电性取决于栅极电压。晶体管是一种电流控制器件。管道的电导率取决于基极电流的大小。2.场效应管漏源静态伏安特性以栅压UGS为参考变量。晶体管输出特性曲线以基极电流Ib为参考变量。
3.FET电流IDS和栅极UGS之间的关系由跨导Gm决定。晶体管电流Ic和Ib之间的关系由放大因子决定。也就是说,场效应管的放大能力用GM来衡量,晶体管的放大能力用Gm来衡量。4.场效应管的输入阻抗很大,输入电流很小。晶体管的输入阻抗很小,导通时输入电流很大。
5.一般场效应晶体管功率小,晶体管功率大。
NMOS3400的作用
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